1、招标条件
项目概况:多靶材磁控溅射系统作为高性能薄膜材料制备的重要设备，在实现多种功能材料高质量沉积、控制膜层厚度与成分均匀性方面具有不可替代的作用，是提升传感器性能与制备可控性的核心支撑。
资金到位或资金来源落实情况:已落实
项目已具备招标条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号:10注册后查看
招标项目名称:华东理工大学多靶材磁控溅射系统采购项目
项目实施地点:中国上海市
招标产品列表(主要设备):

序号	产品名称	数量	简要技术规格	备注
1	多靶材磁控溅射系统	1套	*抽真空系统配备低真空泵和高真空泵，低真空泵采用干式机械泵，抽速≥35m3/h	预算金额：230万，招标限价：230万。

3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:1）投标人或制造商（如适用）有效的营业执照
2）本次招标所涉及到的产品若非自主研发生产，投标人须提供制造商针对本项目的授权书
3）参加本次招标活动前3年内，投标人在经营活动中没有违法记录，无利用不正当竞争手段骗取中标，无行贿犯罪记录；
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始:2025-06-24
招标文件领购结束:2025-07-01

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联系人：刘欣
电话：010-68809590
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