8英寸MEMS晶圆生产线之低温TEOS国际(1)招标公告
日期:2025-01-24
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1、招标条件
项目概况:设备名称:低温TEOS;
数量:1台;
设备原理及用途:PECVD是腔室在低压高温条件下,通入反应气体,形成等离子体,进行化学反应,在硅片表面淀积薄膜。PECVD主要用于产品中二氧化硅、氮化硅的制备。低温TEOS(170℃)机台主要用于麦克风产品的牺牲层,低温主要是为了平衡麦克风产品正反面腐蚀的速度以及防止金属层发生变化(Cr/Au扩散)。
资金到位或资金来源落实情况:已到位
项目已具备招标条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目名称:8英寸MEMS晶圆生产线之低温TEOS
项目实施地点:中国安徽省
招标产品列表(主要设备):
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:①投标人如为境内企业,提供企业法人营业执照或事业单位法人证书,如为境外企业提供企业注册登记证。
②投标人可以是设备制造厂家,也可以是设备授权代理商,代理商需有设备原厂家的有效授权书。
③投标人开户行开具的,出具日期在开标前三个月内的资信证明原件或该原件的复印件。
④投标人需要具有履行合同所必需的设备技术支持和服务能力(提供相关证明材料或承诺书,承诺书格式自拟)。
⑤单位负责人授权书原件。
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始
:2025-01-24
招标文件领购结束
:2025-02-07
项目概况:设备名称:低温TEOS;
数量:1台;
设备原理及用途:PECVD是腔室在低压高温条件下,通入反应气体,形成等离子体,进行化学反应,在硅片表面淀积薄膜。PECVD主要用于产品中二氧化硅、氮化硅的制备。低温TEOS(170℃)机台主要用于麦克风产品的牺牲层,低温主要是为了平衡麦克风产品正反面腐蚀的速度以及防止金属层发生变化(Cr/Au扩散)。
资金到位或资金来源落实情况:已到位
项目已具备招标条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目名称:8英寸MEMS晶圆生产线之低温TEOS
项目实施地点:中国安徽省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 低温TEOS | 1 | 晶圆尺寸:8英寸双面抛光,notch,厚度:300μm~800 μm。其他参数详见第八章 | 无 |
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:①投标人如为境内企业,提供企业法人营业执照或事业单位法人证书,如为境外企业提供企业注册登记证。
②投标人可以是设备制造厂家,也可以是设备授权代理商,代理商需有设备原厂家的有效授权书。
③投标人开户行开具的,出具日期在开标前三个月内的资信证明原件或该原件的复印件。
④投标人需要具有履行合同所必需的设备技术支持和服务能力(提供相关证明材料或承诺书,承诺书格式自拟)。
⑤单位负责人授权书原件。
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始
招标文件领购结束
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联系人:刘欣
电话:010-68809590
手机:13522553206(欢迎拨打手机/微信同号)
邮箱:kefu@bidnews.cn
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