甬江实验室采购化学机械抛光机(金属)等设备项目(重招)国际(2)招标公告
日期:2024-01-22
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1、招标条件
项目概况:甬江实验室因发展需要,需采购化学机械抛光机(金属)设备、等离子体增强化学气相沉积设备、高深宽比磁控溅射设备各1套。
资金到位或资金来源落实情况:项目所需资金已经落实。
项目已具备招标条件的说明:项目已具备招标条件。
2、招标内容
招标项目编号:0762-2441CBNB2001
招标项目名称:甬江实验室采购化学机械抛光机(金属)等设备项目(重招)
项目实施地点:中国浙江省
招标产品列表(主要设备):
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:3.1.1投标人必须是投标产品的制造商或投标产品的制造商授权的代理商,如为代理商需提供制造商针对本项目的授权书;
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始
:2024-01-22
招标文件领购结束
:2024-01-29
项目概况:甬江实验室因发展需要,需采购化学机械抛光机(金属)设备、等离子体增强化学气相沉积设备、高深宽比磁控溅射设备各1套。
资金到位或资金来源落实情况:项目所需资金已经落实。
项目已具备招标条件的说明:项目已具备招标条件。
2、招标内容
招标项目编号:0762-2441CBNB2001
招标项目名称:甬江实验室采购化学机械抛光机(金属)等设备项目(重招)
项目实施地点:中国浙江省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 化学机械抛光机(金属)设备 | 1套 | 将待抛光晶圆在一定的分区下压力及抛光液(由超细磨料颗粒、化学氧化剂和表面活性剂等液体介质组成的混合液)的作用下相对于一个抛光垫作旋转运动,借助磨粒的机械磨削及液体介质的腐蚀作用来选择性完成对晶圆表面金属材料(Ti、TiN、Ta、TaN、W、TiW、Cu等)去除,并获得光洁表面。 | |
2 | 等离子体增强化学气相沉积设备 | 1套 | 借助微波或射频使气体电离,局部形成等离子体,在较低的温度下沉积薄膜。用于沉积SiO2、SiNx、SiON、P-doped SiO2、Ge-doped SiO2、BPSG、FSG等薄膜。 | |
3 | 高深宽比磁控溅射设备 | 1套 | 使用磁控溅射方式用于深硅刻蚀后的硅通孔孔壁沉积阻挡层(Ti或Ta)及电镀种子层(Cu),防止金属与Si相互扩散的同时作为后续电镀孔内填充金属的导电层。 |
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:3.1.1投标人必须是投标产品的制造商或投标产品的制造商授权的代理商,如为代理商需提供制造商针对本项目的授权书;
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始
招标文件领购结束
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联系人:刘欣
电话:010-68809590
手机:13522553206(欢迎拨打手机/微信同号)
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